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GCr15軸承內(nèi)圈磁粒研磨光整實(shí)驗(yàn)

作者:劉冬冬; 韓冰; 陳燕; 胡玉剛 遼寧科技大學(xué)機(jī)械工程與自動(dòng)化學(xué)院; 遼寧鞍山114051

摘要:利用磁粒研磨加工工藝對(duì)軸承內(nèi)圈進(jìn)行光整加工實(shí)驗(yàn),以降低其表面粗糙度值為目的,通過AnsoftMaxwell磁場(chǎng)模擬軟件對(duì)磁極三種形狀進(jìn)行仿真分析,得到磁極開軸向槽磁場(chǎng)強(qiáng)度大,在此基礎(chǔ)上研究了磨料粒徑、磁極轉(zhuǎn)速和研磨液用量對(duì)表面粗糙度值的影響。結(jié)果表明:當(dāng)磨料粒徑為185μm時(shí),磁極轉(zhuǎn)速為600r/min、研磨液用量為6mL,光整加工60min,軸承內(nèi)圈的表面粗糙度值由原始的0.51μm下降至0.10μm,表面的劃痕、刀微紋基本全部去除,表面形貌的均勻性較好,表面的顯微硬度由原始的820HV變?yōu)榱?00HV,研磨后的表面強(qiáng)度增加了。

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