多弧離子鍍TiCrSiCN硬質(zhì)薄膜的微觀結(jié)構(gòu)與摩擦學(xué)性能
作者：郭巖; 葉智; 徐勃; 楊文濤; 張童童; 張少勇; 祖平文; 田樹高; 聶海軍 華電電力科學(xué)研究院有限公司; 浙江杭州310030
摘要：采用工業(yè)型多弧離子鍍設(shè)備在4Cr5MoSiV1工業(yè)鋼表面沉積TiCrSiCN硬質(zhì)薄膜.借助掃描電子顯微鏡(SEM)、X射線衍射儀(XRD)、X射線光電子能譜儀(XPS)、顯微硬度計、劃痕儀和摩擦磨損儀分析了TiCrSiCN薄膜的微觀結(jié)構(gòu)、力學(xué)性能和摩擦學(xué)性能.結(jié)果表明,TiCrSiCN薄膜為納米晶和非晶的復(fù)合結(jié)構(gòu),其中的Ti(CN)和CrN納米晶可顯著提高硬度和耐磨性,而非晶相Si3N4與C起到減摩作用.高Cr和C含量的薄膜硬度高,與基材的結(jié)合力強,干滑動摩擦因數(shù)、干滑動磨損率和微磨料磨損率都明顯降低,耐磨減摩效果好.
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