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Optics And Laser Technology

  • ISSN:0030-3992
  • ESSN:1879-2545
  • 國際標(biāo)準(zhǔn)簡稱:OPT LASER TECHNOL
  • 出版地區(qū):ENGLAND
  • 出版周期:Bimonthly
  • 研究方向:物理 - 光學(xué)
  • 出版年份:1968
  • 語言:English
  • 是否OA:未開放
  • 學(xué)科領(lǐng)域

    物理與天體物理
  • 中科院分區(qū)

    2區(qū)
  • JCR分區(qū)

    Q1
  • IF影響因子

    4.6
  • 是否預(yù)警

期刊簡介

Journal Title:Optics And Laser Technology

Optics & Laser Technology aims to provide a vehicle for the publication of a broad range of high quality research and review papers in those fields of scientific and engineering research appertaining to the development and application of the technology of optics and lasers. Papers describing original work in these areas are submitted to rigorous refereeing prior to acceptance for publication.

The scope of Optics & Laser Technology encompasses, but is not restricted to, the following areas:

?development in all types of lasers

?developments in optoelectronic devices and photonics

?developments in new photonics and optical concepts

?developments in conventional optics, optical instruments and components

?techniques of optical metrology, including interferometry and optical fibre sensors

?LIDAR and other non-contact optical measurement techniques, including optical methods in heat and fluid flow

?applications of lasers to materials processing, optical NDT display (including holography) and optical communication

?research and development in the field of laser safety including studies of hazards resulting from the applications of lasers (laser safety, hazards of laser fume)

?developments in optical computing and optical information processing

?developments in new optical materials

?developments in new optical characterization methods and techniques

?developments in quantum optics

?developments in light assisted micro and nanofabrication methods and techniques

?developments in nanophotonics and biophotonics

?developments in imaging processing and systems

中文簡介

《光學(xué)與激光技術(shù)》旨在為光學(xué)和激光技術(shù)開發(fā)和應(yīng)用相關(guān)的科學(xué)和工程研究領(lǐng)域提供廣泛的高質(zhì)量研究和評論論文的出版載體。描述這些領(lǐng)域原創(chuàng)工作的論文在接受出版之前要經(jīng)過嚴(yán)格的評審。

光學(xué)與激光技術(shù)的范圍包括但不限于以下領(lǐng)域:

?所有類型激光器的開發(fā)

?光電器件和光子學(xué)的開發(fā)

?新光子學(xué)和光學(xué)概念的開發(fā)

?傳統(tǒng)光學(xué)、光學(xué)儀器和組件的開發(fā)

?光學(xué)計量技術(shù),包括干涉測量和光纖傳感器

?激光雷達(dá)和其他非接觸式光學(xué)測量技術(shù),包括熱和流體流動中的光學(xué)方法

?激光在材料加工、光學(xué)無損檢測顯示(包括全息術(shù))和光通信中的應(yīng)用

?激光安全領(lǐng)域的研究和開發(fā),包括對激光應(yīng)用造成的危害的研究(激光安全、危害激光煙霧)

?光學(xué)計算和光學(xué)信息處理的發(fā)展

?新光學(xué)材料的發(fā)展

?新光學(xué)表征方法和技術(shù)的發(fā)展

?量子光學(xué)的發(fā)展

?光輔助微納米制造方法和技術(shù)的發(fā)展

?納米光子學(xué)和生物光子學(xué)的發(fā)展

?成像處理和系統(tǒng)的發(fā)展

期刊點評

Optics And Laser Technology創(chuàng)刊于1968年,由Elsevier Ltd出版商出版,收稿方向涵蓋物理 - 光學(xué)全領(lǐng)域,此刊是該細(xì)分領(lǐng)域中屬于非常不錯的SCI期刊,在行業(yè)細(xì)分領(lǐng)域中學(xué)術(shù)影響力較大,專業(yè)度認(rèn)可很高,所以對原創(chuàng)文章要求創(chuàng)新性較高,如果您的文章質(zhì)量很高,可以嘗試。平均審稿速度 約2.1個月 約9周,影響因子指數(shù)4.6,該期刊近期沒有被列入國際期刊預(yù)警名單,廣大學(xué)者值得一試。

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2023年12月升級版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 2區(qū) OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 2區(qū) 2區(qū)

名詞解釋:
中科院分區(qū)也叫中科院JCR分區(qū),基礎(chǔ)版分為13個大類學(xué)科,然后按照各類期刊影響因子分別將每個類別分為四個區(qū),影響因子5%為1區(qū),6%-20%為2區(qū),21%-50%為3區(qū),其余為4區(qū)。

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2022年12月升級版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 2區(qū) OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 2區(qū) 2區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月舊的升級版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 2區(qū) OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 2區(qū) 2區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月基礎(chǔ)版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理 2區(qū) OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 2區(qū) 3區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月升級版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 2區(qū) OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 2區(qū) 2區(qū)

中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2020年12月舊的升級版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 2區(qū) OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 2區(qū) 2區(qū)

WOS分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2023-2024年最新版)

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:OPTICS SCIE Q1 21 / 119

82.8%

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 45 / 179

75.1%

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:OPTICS SCIE Q1 20 / 120

83.75%

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q1 29 / 179

84.08%

名詞解釋:
WOS即Web of Science,是全球獲取學(xué)術(shù)信息的重要數(shù)據(jù)庫,Web of Science包括自然科學(xué)、社會科學(xué)、藝術(shù)與人文領(lǐng)域的信息,來自全世界近9,000種最負(fù)盛名的高影響力研究期刊及12,000多種學(xué)術(shù)會議多學(xué)科內(nèi)容。給期刊分區(qū)時會按照某一個學(xué)科領(lǐng)域劃分,根據(jù)這一學(xué)科所有按照影響因子數(shù)值降序排名,然后平均分成4等份,期刊影響因子值高的就會在高分區(qū)中,最后的劃分結(jié)果分別是Q1,Q2,Q3,Q4,Q1代表質(zhì)量最高。

CiteScore分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2024年最新版)

CiteScore SJR SNIP CiteScore排名
8.3 0.874 1.577
學(xué)科 分區(qū) 排名 百分位
大類:Engineering 小類:Electrical and Electronic Engineering Q1 102 / 738

86%

大類:Engineering 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q1 45 / 271

83%

大類:Engineering 小類:Atomic and Molecular Physics, and Optics Q1 36 / 211

83%

名詞解釋:
CiteScore:衡量期刊所發(fā)表文獻(xiàn)的平均受引用次數(shù)。
SJR:SCImago 期刊等級衡量經(jīng)過加權(quán)后的期刊受引用次數(shù)。引用次數(shù)的加權(quán)值由施引期刊的學(xué)科領(lǐng)域和聲望 (SJR) 決定。
SNIP:每篇文章中來源出版物的標(biāo)準(zhǔn)化影響將實際受引用情況對照期刊所屬學(xué)科領(lǐng)域中預(yù)期的受引用情況進(jìn)行衡量。

其他數(shù)據(jù)

是否OA開放訪問: h-index: 年文章數(shù):
未開放 63 1281
Gold OA文章占比: 2021-2022最新影響因子(數(shù)據(jù)來源于搜索引擎): 開源占比(OA被引用占比):
5.85% 4.6 0.03...
研究類文章占比:文章 ÷(文章 + 綜述) 期刊收錄: 中科院《國際期刊預(yù)警名單(試行)》名單:
96.96% SCIE

歷年IF值(影響因子):

歷年引文指標(biāo)和發(fā)文量:

歷年中科院JCR大類分區(qū)數(shù)據(jù):

歷年自引數(shù)據(jù):

發(fā)文統(tǒng)計

2023-2024國家/地區(qū)發(fā)文量統(tǒng)計:

國家/地區(qū) 數(shù)量
CHINA MAINLAND 1055
India 241
Iran 97
USA 95
Malaysia 58
Russia 48
South Korea 47
England 44
Saudi Arabia 41
Egypt 39

2023-2024機(jī)構(gòu)發(fā)文量統(tǒng)計:

機(jī)構(gòu) 數(shù)量
CHINESE ACADEMY OF SCIENCES 147
HARBIN INSTITUTE OF TECHNOLOGY 74
INDIAN INSTITUTE OF TECHNOLOGY S... 55
HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE &... 42
BEIJING JIAOTONG UNIVERSITY 36
JILIN UNIVERSITY 34
SHANDONG UNIVERSITY 33
JIANGSU UNIVERSITY 31
RUSSIAN ACADEMY OF SCIENCES 31
NORTHEASTERN UNIVERSITY - CHINA 27

近年引用統(tǒng)計:

期刊名稱 數(shù)量
OPT EXPRESS 1140
OPT LASER TECHNOL 891
OPT LETT 791
APPL OPTICS 546
APPL PHYS LETT 444
OPT COMMUN 424
APPL SURF SCI 403
J MATER PROCESS TECH 372
MAT SCI ENG A-STRUCT 341
MATER DESIGN 324

近年被引用統(tǒng)計:

期刊名稱 數(shù)量
OPT LASER TECHNOL 891
OPTIK 410
OPT EXPRESS 222
MATER RES EXPRESS 220
APPL OPTICS 188
INT J ADV MANUF TECH 179
MATERIALS 156
SENSORS-BASEL 155
OPT COMMUN 153
IEEE ACCESS 140

近年文章引用統(tǒng)計:

文章名稱 數(shù)量
[INVITED] Recent advances in sur... 41
An image compression and encrypt... 37
A novel image steganography tech... 32
Cadmium oxide/TEMPO-oxidized cel... 31
Multi walled carbon nanotube dec... 27
Preparation of highly conductive... 26
Exploiting chaos-based compresse... 25
3-Dimensional heat transfer mode... 25
A combination chaotic system and... 24
Review on optical image hiding a... 24

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Entropy 2.1 3區(qū)
Physical Review Letters 8.1 1區(qū)
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Applied Physics Letters 3.5 2區(qū)
Acs Photonics 6.5 1區(qū)
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