Journal Title:Plasma Chemistry And Plasma Processing
Publishing original papers on fundamental and applied research in plasma chemistry and plasma processing, the scope of this journal includes processing plasmas ranging from non-thermal plasmas to thermal plasmas, and fundamental plasma studies as well as studies of specific plasma applications. Such applications include but are not limited to plasma catalysis, environmental processing including treatment of liquids and gases, biological applications of plasmas including plasma medicine and agriculture, surface modification and deposition, powder and nanostructure synthesis, energy applications including plasma combustion and reforming, resource recovery, coupling of plasmas and electrochemistry, and plasma etching. Studies of chemical kinetics in plasmas, and the interactions of plasmas with surfaces are also solicited. It is essential that submissions include substantial consideration of the role of the plasma, for example, the relevant plasma chemistry, plasma physics or plasma–surface interactions; manuscripts that consider solely the properties of materials or substances processed using a plasma are not within the journal’s scope.
本期刊發(fā)表有關(guān)等離子體化學和等離子體處理基礎和應用研究的原創(chuàng)論文,范圍包括從非熱等離子體到熱等離子體的處理等離子體、等離子體基礎研究以及特定等離子體應用的研究。此類應用包括但不限于等離子體催化、環(huán)境處理(包括液體和氣體處理)、等離子體的生物應用(包括等離子體醫(yī)學和農(nóng)業(yè))、表面改性和沉積、粉末和納米結(jié)構(gòu)合成、能源應用(包括等離子體燃燒和重整)、資源回收、等離子體與電化學的耦合以及等離子體蝕刻。還征集等離子體化學動力學研究以及等離子體與表面的相互作用。投稿必須充分考慮等離子體的作用,例如相關(guān)的等離子體化學、等離子體物理或等離子體-表面相互作用;僅考慮使用等離子體處理的材料或物質(zhì)的性質(zhì)的稿件不在本期刊的范圍內(nèi)。
Plasma Chemistry And Plasma Processing創(chuàng)刊于1981年,由Springer US出版商出版,收稿方向涵蓋工程技術(shù) - 工程:化工全領域,此刊是中等級別的SCI期刊,所以過審相對來講不是特別難,但是該刊專業(yè)認可度不錯,仍然是一本值得選擇的SCI期刊 。平均審稿速度 較慢,6-12周 ,影響因子指數(shù)2.6,該期刊近期沒有被列入國際期刊預警名單,廣大學者值得一試。
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 3區(qū) | ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
名詞解釋:
中科院分區(qū)也叫中科院JCR分區(qū),基礎版分為13個大類學科,然后按照各類期刊影響因子分別將每個類別分為四個區(qū),影響因子5%為1區(qū),6%-20%為2區(qū),21%-50%為3區(qū),其余為4區(qū)。
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 3區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 2區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 | 4區(qū) 3區(qū) 2區(qū) | 否 | 否 |
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
按JIF指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學科:ENGINEERING, CHEMICAL | SCIE | Q3 | 91 / 170 |
46.8% |
學科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 81 / 179 |
55% |
學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q2 | 12 / 40 |
71.3% |
按JCI指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學科:ENGINEERING, CHEMICAL | SCIE | Q2 | 55 / 171 |
68.13% |
學科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 69 / 179 |
61.73% |
學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q2 | 17 / 40 |
58.75% |
名詞解釋:
WOS即Web of Science,是全球獲取學術(shù)信息的重要數(shù)據(jù)庫,Web of Science包括自然科學、社會科學、藝術(shù)與人文領域的信息,來自全世界近9,000種最負盛名的高影響力研究期刊及12,000多種學術(shù)會議多學科內(nèi)容。給期刊分區(qū)時會按照某一個學科領域劃分,根據(jù)這一學科所有按照影響因子數(shù)值降序排名,然后平均分成4等份,期刊影響因子值高的就會在高分區(qū)中,最后的劃分結(jié)果分別是Q1,Q2,Q3,Q4,Q1代表質(zhì)量最高。
CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore排名 | ||||||||||||||||||||
5.9 | 0.48 | 0.912 |
|
名詞解釋:
CiteScore:衡量期刊所發(fā)表文獻的平均受引用次數(shù)。
SJR:SCImago 期刊等級衡量經(jīng)過加權(quán)后的期刊受引用次數(shù)。引用次數(shù)的加權(quán)值由施引期刊的學科領域和聲望 (SJR) 決定。
SNIP:每篇文章中來源出版物的標準化影響將實際受引用情況對照期刊所屬學科領域中預期的受引用情況進行衡量。
是否OA開放訪問: | h-index: | 年文章數(shù): |
未開放 | 57 | 123 |
Gold OA文章占比: | 2021-2022最新影響因子(數(shù)據(jù)來源于搜索引擎): | 開源占比(OA被引用占比): |
14.18% | 2.6 | 0.09... |
研究類文章占比:文章 ÷(文章 + 綜述) | 期刊收錄: | 中科院《國際期刊預警名單(試行)》名單: |
95.12% | SCIE | 否 |
歷年IF值(影響因子):
歷年引文指標和發(fā)文量:
歷年中科院JCR大類分區(qū)數(shù)據(jù):
歷年自引數(shù)據(jù):
2023-2024國家/地區(qū)發(fā)文量統(tǒng)計:
國家/地區(qū) | 數(shù)量 |
CHINA MAINLAND | 70 |
Russia | 37 |
USA | 29 |
France | 26 |
GERMANY (FED REP GER) | 21 |
Czech Republic | 15 |
Iran | 14 |
India | 12 |
Japan | 12 |
Poland | 11 |
2023-2024機構(gòu)發(fā)文量統(tǒng)計:
機構(gòu) | 數(shù)量 |
RUSSIAN ACADEMY OF SCIENCES | 24 |
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE ... | 21 |
CZECH ACADEMY OF SCIENCES | 10 |
XI'AN JIAOTONG UNIVERSITY | 10 |
CHINESE ACADEMY OF SCIENCES | 9 |
DALIAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY | 9 |
COMENIUS UNIVERSITY BRATISLAVA | 7 |
IVANOVO STATE UNIVERSITY OF CHEM... | 7 |
STATE UNIVERSITY SYSTEM OF FLORI... | 7 |
KOREA UNIVERSITY | 6 |
近年引用統(tǒng)計:
期刊名稱 | 數(shù)量 |
J PHYS D APPL PHYS | 308 |
PLASMA CHEM PLASMA P | 289 |
PLASMA SOURCES SCI T | 186 |
IEEE T PLASMA SCI | 101 |
PLASMA PROCESS POLYM | 97 |
J APPL PHYS | 74 |
CHEM ENG J | 69 |
APPL PHYS LETT | 64 |
APPL CATAL B-ENVIRON | 58 |
J CHEM PHYS | 53 |
近年被引用統(tǒng)計:
期刊名稱 | 數(shù)量 |
PLASMA CHEM PLASMA P | 289 |
J PHYS D APPL PHYS | 241 |
IEEE T PLASMA SCI | 106 |
PLASMA SCI TECHNOL | 95 |
CHEM ENG J | 92 |
PLASMA SOURCES SCI T | 82 |
PLASMA PROCESS POLYM | 79 |
PHYS PLASMAS | 48 |
SURF COAT TECH | 46 |
J APPL PHYS | 39 |
近年文章引用統(tǒng)計:
文章名稱 | 數(shù)量 |
Effect of Cold Atmospheric Press... | 23 |
Cold Atmospheric Pressure Plasma... | 14 |
Inactivation of Shewanella putre... | 13 |
Seed Priming with Non-thermal Pl... | 13 |
Stimulation of the Germination a... | 12 |
Evaluation of Oxidative Species ... | 12 |
Non-thermal Plasma Induced Expre... | 11 |
Effect of the Magnetic Field on ... | 9 |
On the Possibilities of Straight... | 8 |
Plasma Activated Organic Fertili... | 8 |
同小類學科的其他優(yōu)質(zhì)期刊 | 影響因子 | 中科院分區(qū) |
Science China-physics Mechanics & Astronomy | 6.4 | 1區(qū) |
Advances In Mathematical Physics | 1 | 4區(qū) |
Nature Photonics | 32.3 | 1區(qū) |
Photonics | 2.1 | 4區(qū) |
Entropy | 2.1 | 3區(qū) |
Physical Review Letters | 8.1 | 1區(qū) |
Optics Express | 3.2 | 2區(qū) |
Applied Physics Letters | 3.5 | 2區(qū) |
Acs Photonics | 6.5 | 1區(qū) |
Astrophysical Journal | 4.8 | 2區(qū) |
若用戶需要出版服務,請聯(lián)系出版商:SPRINGER, 233 SPRING ST, NEW YORK, USA, NY, 10013。