Journal Title：Journal Of Electron Spectroscopy And Related Phenomena
The Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena publishes experimental, theoretical and applied work in the field of electron spectroscopy and electronic structure, involving techniques which use high energy photons (>10 eV) or electrons as probes or detected particles in the investigation.
《電子能譜與相關(guān)現(xiàn)象》雜志發(fā)表電子能譜和電子結(jié)構(gòu)領(lǐng)域的實驗、理論和應(yīng)用工作，涉及使用高能光子（>10 eV）或電子作為探針或檢測粒子進(jìn)行研究的技術(shù)。
Journal Of Electron Spectroscopy And Related Phenomena創(chuàng)刊于1972年，由Elsevier出版商出版，收稿方向涵蓋物理 - 光譜學(xué)全領(lǐng)域，此期刊水平偏中等偏靠后，在所屬細(xì)分領(lǐng)域中專業(yè)影響力一般，過審相對較易，如果您文章質(zhì)量佳，選擇此期刊，發(fā)表機(jī)率較高。平均審稿速度 較慢,6-12周 ，影響因子指數(shù)1.8，該期刊近期沒有被列入國際期刊預(yù)警名單，廣大學(xué)者值得一試。
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 4區(qū) | SPECTROSCOPY 光譜學(xué) | 3區(qū) | 否 | 否 |
名詞解釋：
中科院分區(qū)也叫中科院JCR分區(qū)，基礎(chǔ)版分為13個大類學(xué)科，然后按照各類期刊影響因子分別將每個類別分為四個區(qū)，影響因子5%為1區(qū)，6%-20%為2區(qū)，21%-50%為3區(qū)，其余為4區(qū)。
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 3區(qū) | SPECTROSCOPY 光譜學(xué) | 3區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 4區(qū) | SPECTROSCOPY 光譜學(xué) | 3區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理 | 4區(qū) | SPECTROSCOPY 光譜學(xué) | 4區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 4區(qū) | SPECTROSCOPY 光譜學(xué) | 3區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 4區(qū) | SPECTROSCOPY 光譜學(xué) | 4區(qū) | 否 | 否 |
| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：SPECTROSCOPY | SCIE | Q2 | 22 / 44 |
51.1% |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：SPECTROSCOPY | SCIE | Q2 | 16 / 44 |
64.77% |
名詞解釋：
WOS即Web of Science，是全球獲取學(xué)術(shù)信息的重要數(shù)據(jù)庫，Web of Science包括自然科學(xué)、社會科學(xué)、藝術(shù)與人文領(lǐng)域的信息，來自全世界近9,000種最負(fù)盛名的高影響力研究期刊及12,000多種學(xué)術(shù)會議多學(xué)科內(nèi)容。給期刊分區(qū)時會按照某一個學(xué)科領(lǐng)域劃分，根據(jù)這一學(xué)科所有按照影響因子數(shù)值降序排名，然后平均分成4等份，期刊影響因子值高的就會在高分區(qū)中，最后的劃分結(jié)果分別是Q1，Q2，Q3，Q4，Q1代表質(zhì)量最高。
| CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore排名 | ||||||||||||||||||||||||||||
| 3.3 | 0.506 | 0.68 |
|
名詞解釋：
CiteScore：衡量期刊所發(fā)表文獻(xiàn)的平均受引用次數(shù)。
SJR:SCImago 期刊等級衡量經(jīng)過加權(quán)后的期刊受引用次數(shù)。引用次數(shù)的加權(quán)值由施引期刊的學(xué)科領(lǐng)域和聲望 (SJR) 決定。
SNIP:每篇文章中來源出版物的標(biāo)準(zhǔn)化影響將實際受引用情況對照期刊所屬學(xué)科領(lǐng)域中預(yù)期的受引用情況進(jìn)行衡量。
| 是否OA開放訪問： | h-index： | 年文章數(shù)： |
| 未開放 | 80 | 74 |
| Gold OA文章占比： | 2021-2022最新影響因子（數(shù)據(jù)來源于搜索引擎）: | 開源占比（OA被引用占比）： |
| 27.69% | 1.8 | 0.18... |
| 研究類文章占比：文章 ÷（文章 + 綜述） | 期刊收錄： | 中科院《國際期刊預(yù)警名單（試行）》名單： |
| 98.65% | SCIE | 否 |
歷年IF值(影響因子)：
歷年引文指標(biāo)和發(fā)文量：
歷年中科院JCR大類分區(qū)數(shù)據(jù)：
歷年自引數(shù)據(jù)：
2023-2024國家/地區(qū)發(fā)文量統(tǒng)計：
| 國家/地區(qū) | 數(shù)量 |
| USA | 39 |
| CHINA MAINLAND | 31 |
| GERMANY (FED REP GER) | 30 |
| India | 28 |
| Japan | 26 |
| Italy | 19 |
| Russia | 15 |
| Sweden | 15 |
| France | 13 |
| Poland | 12 |
2023-2024機(jī)構(gòu)發(fā)文量統(tǒng)計：
| 機(jī)構(gòu) | 數(shù)量 |
| UNITED STATES DEPARTMENT OF ENER... | 12 |
| CHINESE ACADEMY OF SCIENCES | 11 |
| CONSIGLIO NAZIONALE DELLE RICERC... | 9 |
| TECHNISCHE UNIVERSITAT WIEN | 9 |
| CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE ... | 8 |
| HELMHOLTZ ASSOCIATION | 8 |
| UPPSALA UNIVERSITY | 8 |
| CZECH ACADEMY OF SCIENCES | 7 |
| HUNAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY | 7 |
| UNIVERSITY OF DELHI | 7 |
近年引用統(tǒng)計：
| 期刊名稱 | 數(shù)量 |
| J ELECTRON SPECTROSC | 148 |
| PHYS REV A | 148 |
| PHYS REV LETT | 132 |
| PHYS REV B | 131 |
| J PHYS B-AT MOL OPT | 110 |
| J CHEM PHYS | 102 |
| SURF INTERFACE ANAL | 91 |
| APPL SURF SCI | 56 |
| SURF SCI | 54 |
| ATOM DATA NUCL DATA | 51 |
近年被引用統(tǒng)計：
| 期刊名稱 | 數(shù)量 |
| J PHYS CHEM C | 181 |
| PHYS REV B | 154 |
| J CHEM PHYS | 151 |
| PHYS CHEM CHEM PHYS | 151 |
| J ELECTRON SPECTROSC | 148 |
| APPL SURF SCI | 139 |
| ACS APPL MATER INTER | 89 |
| PHYS REV A | 79 |
| J PHYS CHEM A | 69 |
| SURF INTERFACE ANAL | 64 |
近年文章引用統(tǒng)計：
| 文章名稱 | 數(shù)量 |
| XPS in industry-Problems with bi... | 15 |
| Chemical bonding in carbide MXen... | 14 |
| Chemical surface analysis on mat... | 11 |
| Imaging XPS for industrial appli... | 10 |
| Automated electron-optical syste... | 10 |
| Electronic and magnetic properti... | 9 |
| Reliable absorbance measurement ... | 9 |
| Electronic properties of composi... | 8 |
| Investigation of local geometric... | 6 |
| Effect of argon sputtering on XP... | 6 |
| 同小類學(xué)科的其他優(yōu)質(zhì)期刊 | 影響因子 | 中科院分區(qū) |
| Science China-physics Mechanics & Astronomy | 6.4 | 1區(qū) |
| Advances In Mathematical Physics | 1 | 4區(qū) |
| Nature Photonics | 32.3 | 1區(qū) |
| Photonics | 2.1 | 4區(qū) |
| Entropy | 2.1 | 3區(qū) |
| Physical Review Letters | 8.1 | 1區(qū) |
| Optics Express | 3.2 | 2區(qū) |
| Applied Physics Letters | 3.5 | 2區(qū) |
| Acs Photonics | 6.5 | 1區(qū) |
| Astrophysical Journal | 4.8 | 2區(qū) |
若用戶需要出版服務(wù)，請聯(lián)系出版商：ELSEVIER SCIENCE BV, PO BOX 211, AMSTERDAM, NETHERLANDS, 1000 AE。
