Journal Title:Journal Of Vacuum Science & Technology A
Journal of Vacuum Science & Technology A publishes reports of original research, letters, and review articles that focus on fundamental scientific understanding of interfaces, surfaces, plasmas and thin films and on using this understanding to advance the state-of-the-art in various technological applications.
《真空科學與技術 A 雜志》發(fā)表原創(chuàng)研究報告、信件和評論文章,重點關注界面、表面、等離子體和薄膜的基本科學理解,并利用這種理解推動各種技術應用的最新發(fā)展。
Journal Of Vacuum Science & Technology A創(chuàng)刊于1983年,由AVS Science and Technology Society出版商出版,收稿方向涵蓋材料科學:膜 - 工程技術全領域,此刊是中等級別的SCI期刊,所以過審相對來講不是特別難,但是該刊專業(yè)認可度不錯,仍然是一本值得選擇的SCI期刊 。平均審稿速度 一般,3-6周 ,影響因子指數(shù)2.4,該期刊近期沒有被列入國際期刊預警名單,廣大學者值得一試。
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
材料科學 | 3區(qū) | MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
名詞解釋:
中科院分區(qū)也叫中科院JCR分區(qū),基礎版分為13個大類學科,然后按照各類期刊影響因子分別將每個類別分為四個區(qū),影響因子5%為1區(qū),6%-20%為2區(qū),21%-50%為3區(qū),其余為4區(qū)。
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
材料科學 | 2區(qū) | MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
材料科學 | 3區(qū) | MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術 | 4區(qū) | MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
材料科學 | 3區(qū) | MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
材料科學 | 2區(qū) | MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 2區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
按JIF指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學科:MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS | SCIE | Q3 | 13 / 23 |
45.7% |
學科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 96 / 179 |
46.6% |
按JCI指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學科:MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS | SCIE | Q3 | 12 / 23 |
50% |
學科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 88 / 179 |
51.12% |
名詞解釋:
WOS即Web of Science,是全球獲取學術信息的重要數(shù)據(jù)庫,Web of Science包括自然科學、社會科學、藝術與人文領域的信息,來自全世界近9,000種最負盛名的高影響力研究期刊及12,000多種學術會議多學科內(nèi)容。給期刊分區(qū)時會按照某一個學科領域劃分,根據(jù)這一學科所有按照影響因子數(shù)值降序排名,然后平均分成4等份,期刊影響因子值高的就會在高分區(qū)中,最后的劃分結果分別是Q1,Q2,Q3,Q4,Q1代表質(zhì)量最高。
CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore排名 | ||||||||||||||||
5.1 | 0.569 | 0.957 |
|
名詞解釋:
CiteScore:衡量期刊所發(fā)表文獻的平均受引用次數(shù)。
SJR:SCImago 期刊等級衡量經(jīng)過加權后的期刊受引用次數(shù)。引用次數(shù)的加權值由施引期刊的學科領域和聲望 (SJR) 決定。
SNIP:每篇文章中來源出版物的標準化影響將實際受引用情況對照期刊所屬學科領域中預期的受引用情況進行衡量。
是否OA開放訪問: | h-index: | 年文章數(shù): |
未開放 | 100 | 333 |
Gold OA文章占比: | 2021-2022最新影響因子(數(shù)據(jù)來源于搜索引擎): | 開源占比(OA被引用占比): |
27.03% | 2.4 | 0.27... |
研究類文章占比:文章 ÷(文章 + 綜述) | 期刊收錄: | 中科院《國際期刊預警名單(試行)》名單: |
97.60% | SCIE | 否 |
歷年IF值(影響因子):
歷年引文指標和發(fā)文量:
歷年中科院JCR大類分區(qū)數(shù)據(jù):
歷年自引數(shù)據(jù):
2023-2024國家/地區(qū)發(fā)文量統(tǒng)計:
國家/地區(qū) | 數(shù)量 |
USA | 368 |
Japan | 77 |
GERMANY (FED REP GER) | 61 |
South Korea | 56 |
France | 44 |
Sweden | 33 |
CHINA MAINLAND | 31 |
England | 29 |
Finland | 26 |
Netherlands | 26 |
2023-2024機構發(fā)文量統(tǒng)計:
機構 | 數(shù)量 |
UNITED STATES DEPARTMENT OF ENER... | 58 |
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE ... | 30 |
UNITED STATES DEPARTMENT OF DEFE... | 26 |
LINKOPING UNIVERSITY | 25 |
UNIVERSITY OF ILLINOIS SYSTEM | 24 |
UNIVERSITY OF CALIFORNIA SYSTEM | 20 |
CEA | 18 |
UNIVERSITY OF TEXAS SYSTEM | 17 |
UNIVERSITY SYSTEM OF MARYLAND | 17 |
LAM RESEARCH CORPORATION | 16 |
近年引用統(tǒng)計:
期刊名稱 | 數(shù)量 |
J VAC SCI TECHNOL A | 658 |
J APPL PHYS | 549 |
APPL PHYS LETT | 448 |
THIN SOLID FILMS | 363 |
PHYS REV B | 338 |
SURF COAT TECH | 277 |
CHEM MATER | 221 |
APPL SURF SCI | 202 |
J ELECTROCHEM SOC | 168 |
J VAC SCI TECHNOL B | 141 |
近年被引用統(tǒng)計:
期刊名稱 | 數(shù)量 |
J VAC SCI TECHNOL A | 658 |
THIN SOLID FILMS | 321 |
SURF COAT TECH | 303 |
APPL SURF SCI | 280 |
JPN J APPL PHYS | 253 |
J APPL PHYS | 217 |
J PHYS CHEM C | 201 |
VACUUM | 185 |
CHEM MATER | 155 |
ACS APPL MATER INTER | 149 |
近年文章引用統(tǒng)計:
文章名稱 | 數(shù)量 |
Review Article: Stress in thin f... | 72 |
Status and prospects of plasma-a... | 26 |
Practical guides for x-ray photo... | 23 |
Functional model for analysis of... | 19 |
Review Article: Catalysts design... | 16 |
Paradigm shift in thin-film grow... | 14 |
Review Article: Atomic layer dep... | 14 |
Atomic layer deposition of silic... | 13 |
Review Article: Crystal alignmen... | 12 |
Vapor-deposited octadecanethiol ... | 11 |
同小類學科的其他優(yōu)質(zhì)期刊 | 影響因子 | 中科院分區(qū) |
Acta Metallurgica Sinica-english Letters | 2.9 | 2區(qū) |
Frontiers In Materials | 2.6 | 4區(qū) |
Journal Of Alloys And Compounds | 5.8 | 2區(qū) |
Applied Surface Science | 6.3 | 2區(qū) |
Science And Technology Of Advanced Materials | 7.4 | 3區(qū) |
Materials Today Communications | 3.7 | 3區(qū) |
Advanced Science | 14.3 | 1區(qū) |
Integrating Materials And Manufacturing Innovation | 2.4 | 3區(qū) |
Journal Of Materials Chemistry C | 5.7 | 2區(qū) |
Jom | 2.1 | 4區(qū) |
若用戶需要出版服務,請聯(lián)系出版商:A V S AMER INST PHYSICS, STE 1 NO 1, 2 HUNTINGTON QUADRANGLE, MELVILLE, USA, NY, 11747-4502。