目前處于幾區(qū)?
來源:優(yōu)發(fā)表網(wǎng)整理 2024-09-18 10:49:24 610人看過
《Materials Science In Semiconductor Processing》雜志在中科院分區(qū)中的情況如下:大類學(xué)科:工程技術(shù), 分區(qū):3區(qū); 小類學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC工程:電子與電氣, 分區(qū):3區(qū)。
中科院分區(qū)決定了SCI期刊在學(xué)術(shù)界的地位和影響力,對(duì)科研人員和學(xué)術(shù)機(jī)構(gòu)具有重要的參考價(jià)值,具體如下:
對(duì)SCI期刊的評(píng)價(jià):中科院分區(qū)通過將SCI期刊按照3年平均影響因子劃分為不同的等級(jí),為科研人員和學(xué)術(shù)機(jī)構(gòu)提供了一個(gè)評(píng)估SCI期刊學(xué)術(shù)影響力的重要依據(jù)。分區(qū)越高,說明該期刊在學(xué)科內(nèi)的學(xué)術(shù)影響力越大,發(fā)表的文章質(zhì)量越高。
對(duì)科研人員的成果評(píng)估:科研人員發(fā)表的論文所在的中科院分區(qū),可以作為評(píng)估其研究成果質(zhì)量的一個(gè)指標(biāo)。
對(duì)科研資源的分配:中科院分區(qū)在科研資源分配方面也起到重要作用。科研機(jī)構(gòu)在制定科研政策、分配科研資源時(shí),會(huì)參考中科院分區(qū)。
對(duì)科研人員投稿的指導(dǎo):中科院分區(qū)為科研人員選擇投稿期刊提供了參考??蒲腥藛T在選擇投稿期刊時(shí),會(huì)參考中科院分區(qū),以提高論文被接受的可能性,并增加研究成果的影響力。
《Materials Science In Semiconductor Processing》雜志是一本專注于工程:電子與電氣領(lǐng)域的國際期刊,由Elsevier Ltd?出版,創(chuàng)刊于1998年,出版周期為Bimonthly。
《半導(dǎo)體加工中的材料科學(xué)》為討論(光)電子、傳感器、探測(cè)器、生物技術(shù)和綠色能源的功能材料和器件的新型加工、應(yīng)用和理論研究提供了一個(gè)獨(dú)特的論壇。
每期都旨在提供當(dāng)前見解、新成就、突破和未來趨勢(shì)的快照,涉及微電子、能量轉(zhuǎn)換和存儲(chǔ)、通信、生物技術(shù)、(光)催化、納米和薄膜技術(shù)、混合和復(fù)合材料、化學(xué)加工、氣相沉積、器件制造和建模等不同領(lǐng)域,這些領(lǐng)域是先進(jìn)半導(dǎo)體加工和應(yīng)用的支柱。
內(nèi)容包括:亞微米器件的先進(jìn)光刻技術(shù);蝕刻及相關(guān)主題;離子注入;損傷演變和相關(guān)問題;等離子體和熱 CVD;快速熱處理;先進(jìn)的金屬化和互連方案;薄介電層、氧化;溶膠-凝膠處理;化學(xué)浴和(電)化學(xué)沉積;復(fù)合半導(dǎo)體加工;新型非氧化物材料及其應(yīng)用; (大)分子和混合材料;分子動(dòng)力學(xué)、從頭算方法、蒙特卡羅等;分立電路和集成電路的新材料和新工藝;磁性材料和自旋電子學(xué);異質(zhì)結(jié)構(gòu)和量子器件;半導(dǎo)體電學(xué)和光學(xué)特性的工程;晶體生長機(jī)制;可靠性、缺陷密度、固有雜質(zhì)和缺陷。
《Materials Science In Semiconductor Processing》雜志學(xué)術(shù)影響力具體如下:
在學(xué)術(shù)影響力方面,IF影響因子為4.2,顯示出其在工程:電子與電氣學(xué)領(lǐng)域的學(xué)術(shù)影響力和認(rèn)可度。
JCR分區(qū):Q2
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū),在?學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC中為Q2,排名:89 / 352,百分位:74.9%;MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY中為Q2,排名:158 / 438,百分位:64%;PHYSICS, APPLIED中為Q2,排名:51 / 179,百分位:71.8%;PHYSICS, CONDENSED MATTER中為Q2,排名:25 / 79,百分位:69%;
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū),在?學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC中為Q2,排名:113 / 354,百分位:68.22%;MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY中為Q2,排名:125 / 438,百分位:71.58%;PHYSICS, APPLIED中為Q2,排名:47 / 179,百分位:74.02%;PHYSICS, CONDENSED MATTER中為Q1,排名:19 / 79,百分位:76.58%;
《Materials Science In Semiconductor Processing》雜志的審稿周期預(yù)計(jì)為:平均審稿速度 約1.7個(gè)月 約3.7周,投稿需滿足English撰寫,期刊注重原創(chuàng)性與學(xué)術(shù)嚴(yán)謹(jǐn)性,明確拒絕抄襲或一稿多投,Gold OA占比:5.21%,這使得更多的研究人員能夠免費(fèi)獲取和引用這些高質(zhì)量的研究成果。
該雜志其他關(guān)鍵數(shù)據(jù):
CiteScore分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2024年最新版):8,進(jìn)一步證明了其學(xué)術(shù)貢獻(xiàn)和影響力。
H指數(shù):49,年發(fā)文量:635篇
CiteScore分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2024年最新版)
CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore排名 | ||||||||||||||||||||
8 | 0.732 | 0.992 |
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名詞解釋:
CiteScore:衡量期刊所發(fā)表文獻(xiàn)的平均受引用次數(shù)。
SJR:SCImago 期刊等級(jí)衡量經(jīng)過加權(quán)后的期刊受引用次數(shù)。引用次數(shù)的加權(quán)值由施引期刊的學(xué)科領(lǐng)域和聲望 (SJR) 決定。
SNIP:每篇文章中來源出版物的標(biāo)準(zhǔn)化影響將實(shí)際受引用情況對(duì)照期刊所屬學(xué)科領(lǐng)域中預(yù)期的受引用情況進(jìn)行衡量。
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