2024鋁合金表面陶瓷基氧化膜的制備及性能
作者：馬國(guó)峰; 劉志楊; 張麗桌; 董世柱; 賀春林 沈陽(yáng)大學(xué)遼寧省先進(jìn)材料制備技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室; 遼寧沈陽(yáng)110044
摘要：采用交流電源微弧氧化進(jìn)行2024鋁合金表面陶瓷基氧化膜的制備,研究了2024鋁合金表面陶瓷基氧化膜的生長(zhǎng)規(guī)律,各因素對(duì)膜層厚度和耐腐蝕性、表面及截面形貌特征、膜層微觀結(jié)構(gòu)及相成分的影響.結(jié)果表明,采用硅酸鹽電解液體系,恒壓模式下,電壓為200V時(shí),氧化膜厚度最大,表面微孔分布均勻、孔徑較小,膜層耐蝕性最好;恒流模式下,電流密度在15A·dm^-2時(shí),膜層表面性能最好,具有較高耐蝕性,超過(guò)這一電流密度后膜層致密度明顯下降.
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沈陽(yáng)大學(xué)學(xué)報(bào)·自然科學(xué)版
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國(guó)際刊號(hào)：2095-5456
國(guó)內(nèi)刊號(hào)：21-1583/N
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