摘要：采用等離子體增強化學氣相沉積技術,在3種不同基底上(不銹鋼、鋁合金、氮化硅)制備了類金剛石薄膜(DLC),并對薄膜進行了相關的性能評價。結(jié)果表明,3種基底上制得的DLC薄膜結(jié)構致密,表面光滑且具有良好的均勻性;AFM表征結(jié)果表明,沉積的薄膜為無定型結(jié)構;Raman光譜分析顯示沉積的薄膜為類金剛石薄膜;在非金屬上采用等離子體化學氣相沉積技術可以制備出DLC薄膜。與鋁合金、氮化硅相比,選用不銹鋼作為基底的薄膜硬度和彈性模量與基底差異更小,膜基結(jié)合力較強,可達13.55N;基底為氮化硅的薄膜摩擦因數(shù)較低,為0.094 8,但膜基結(jié)合力較差,僅為6.63N。此外,在相同工藝下,基底種類對薄膜的成分和耐摩擦磨損性能影響顯著,但對薄膜的表面形貌和粗糙度無明顯影響。