摘要:介紹了色分離光柵的設(shè)計原理,并對其制作工藝進行了研究。用套刻法以能量為450 eV、束流密度為80 mA/cm2、30°入射角的離子束對100 mm×100 mm石英基片進行刻蝕,制作出了周期為300μm色分離光柵。實驗測得零級次上3ω(351 nm)光的歸一化衍射效率達到了91.9%。結(jié)果表明,這套工藝方法在制作高衍射效率的CSG是可行的,并且具有刻蝕圖形分辨率高、側(cè)壁較陡等優(yōu)點,為進一步制作高衍射效率的色分離光柵提供了參考。
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